氢原子百科 
林本坚（Burn J. LIN）[1]，男，1942年出生于越南，中国台湾人[4][5]，祖籍广东潮汕，[6]美国国家工程院院士，台湾地区中央研究院院士，台积电原研发副总经理，台湾清华大学、台湾交通大学、台湾大学特聘讲座教授，[7]清大—台积电联合研发中心主任。[8]
1963年，林本坚获得台湾大学电机工程学系学士学位。[6]1970年，林本坚获得美国俄亥俄州立大学电机工程学博士学位。[6]同年，林本坚进入IBM公司的沃森研发中心，开启在光刻技术领域的钻研。[4][6]1986年，林本坚开始研究浸润式微影技术。[6]1992年，林本坚从IBM公司提前退休，创办了自己的公司Linnovation。[4]2000年，林本坚加入台积电公司。[4][6]2002年，他研究出以水作为介质的193纳米浸润式微影技术（Immersion Lithography），改变了半导体产业以干式微影作为主流的传统。[9]2008年，林本坚当选美国国家工程院院士。2014年，林本坚成为台湾地区中央研究院院士。[9]2015年年底，林本坚从台积电退休。[9]2021年，林本坚出任台湾清华大学半导体研究学院院长。[8]
林本坚所开拓的浸润式微影（也称光刻）方法，革新了集成电路的制程，使先进半导体芯片的特征尺寸能持续缩减为细微纳米量级。[2]另外，他还曾带领团队创造出许多领先全球的技术，包括1.25微米、1微米、0.75微米、0.5微米、0.35微米的微影技术。[10]林本坚曾多次获美国IBM杰出发明奖；2018年9月8日，他获得未来科学大奖数学与计算机科学奖。[9]
早年经历
林本坚祖籍广东潮汕，1942年出生在越南，在越南西贡长大。[6]在高中的最后一年，17岁的林本坚到台湾新竹高级中学读书，后来考入台湾大学的电机系。[11][6]1963年，林本坚获得台湾大学电机工程学系学士学位。[6]之后，他前往美国俄亥俄州立大学电机系留学。[4]在博士阶段，林本坚跟随博士导师研究全息光学。[4]1970年，林本坚获得美国俄亥俄州立大学电机工程学博士学位。[6]
工作经历
1970年，林本坚进入IBM公司的沃森研发中心，开启在光刻技术领域的钻研。[4][6]1975年，他做出当时光刻领域最短波长的光线，命名为深紫外线（DEEP Ultra-Violet，简称DUV）。[6]
1986年，林本坚意识到原来的微影技术走到尽头，开始研究浸润式微影技术。[6]1987年，林本坚在国际光学工程学会主办的一次会议上提出浸没式光刻的可能性，即用水替代空气作为镜头与晶圆之间的介质以提高光刻精度，但当时器件尺寸较大，该方法未被采用。[4]1992年，50岁的林本坚从IBM公司提前退休，创办了自己的公司Linnovation。[4]
2000年，林本坚接到台积电公司副总蒋尚义的邀请，加入台积电公司。[4][6]2002年2月，林本坚在国际光学工程学会主办的光刻研讨会上做主旨发言，再次提出浸没式光刻的想法；同年9月，他在另一个光刻研讨会上受邀发言，详细阐述利用波长为193纳米的紫外光透过水进行光刻的好处。此后一年多，他在世界各地奔走作报告，说服厂商加入浸没式光刻系统的研发。[4][6]2008年，林本坚当选为美国国家工程院院士。2014年，林本坚成为第一位出身业界的台湾地区“中央研究院”院士。[9]2015年年底，林本坚从台积电退休。[9]2016年，林本坚开始担任台湾清华大学特聘研究讲座教授。2018年，林本坚出任清大-台积电联合研发中心主任。2021年，林本坚出任台湾清华大学半导体研究学院院长。[8]2025年4月，林本坚在采访中表示，中国大陆可能重新定义半导体，获得类似DeepSeek的成功。[12]
科研成就
林本坚一系列突破性的创新所开拓的浸润式微影（也称光刻）方法，革新了集成电路的制程，使先进半导体芯片的特征尺寸能持续缩减为细微纳米量级，为建造最强大的计算和通信系统做出了关键贡献。[2]他曾任职于IBM在美国的研究中心，专注于半导体制程中的微影技术的研发，带领团队创造出许多领先全球的技术，包括1.25微米、1微米、0.75微米、0.5微米、0.35微米的微影技术。[10]2002年，林本坚发明了“浸润式微影技术”（Immersion Lithography），改变了半导体产业以干式微影作为主流的传统。[11][9]
传统的“干式”微影自1959年半导体工业界发明平面积成电路以来被持续使用了四十年，然而受限于基本光学衍射，在20世纪90年代后期，用该方法制造特征尺寸小于65纳米的芯片面临无法逾越的瓶颈。林本坚预见昂贵的“干式”微影技术将进入死角，建议使用浸润式或“湿式”微影，该方法是一种新的微影工序，透过液体介质置换透镜和晶圆表面之间的气隙以提高光学解析精度。虽然原始的浸润式概念在20世纪80年代曾提出过，但距离可实现的方法很远。为使得全面表征及优化浸润式微影系统，林本坚定义了并导出了关键性能指标和缩放公式，为极高解析度的三维浸润式微影光学系统规范了必须遵行的缩放定律。他还研发出克服液体中微气泡形成的方法，开拓了在热力学极限下，经由水而衍射的微影工序。他的一系列发明在科学和工程上证实了“湿式”微影方法可用于最先进的IC制程，他的突破性发明和持久的技术引领促使全球半导体工业界改用“湿式”微影方法。浸润式微影方法用193nm ArF为激光源显影，将IC技术节点从65nm循产业路线图持续降至7nm，使得摩尔定律得以持续延伸了七代。[2]
人才培养
在台湾清华大学担任讲座教授期间，林本坚除了教导专业知识外，他还指出，学生在校常只为自己的成绩竞争，因此希望能激发学生创意，教导他们解决问题以及团队合作的能力。这是他想教给台湾清华大学学生的一项重要能力。[14]另外，他还认为，技术上的困难都是纸上谈兵，要有晚上睡不着觉的信念去解决问题。他勉励年轻人，做科研一定是享受科学乐趣的，“不要死犟，要会转弯，会求助，‘三个臭皮匠顶个诸葛亮’。”[7]
家庭生活
林本坚的父母早年生活于中国香港。抗战时期，为躲避战乱，举家逃往局势相对安稳的越南，林本坚便出生于此。在越南生活期间，林本坚接受着中国式教育。同时，由于父亲曾任英文学校校长，他在父亲的熏陶下，打下了坚实的英文基础。[11]林本坚的妻子为黄修慧。[3]
为人处世
林本坚笃信基督教，秉持着这份信仰，他为人和善，讲话时总是轻声细语，语速平缓。因而，过往共事的同事，还有晚辈们，都亲切唤他“Burn 爷爷”。然而，一旦投身工作和研究，这位平日里和蔼可亲的老先生，便会展现出异乎寻常的坚定。[14]
人生信条
诚信、正直、操守，还有反复强调的合作精神。[7]
社会活动
社会任职
任职时间职务2002年-2011年JournalofMicro/nanolithography,MEMS,andMOEMS首任总编辑2003年国际电机电子工程学会（IEEE）会士2003年国际光学工程学会（SPIE）会士——IEEE终身研究员参考资料：[8]
人物评价
林本坚是一位极少与人红脸的儒雅先生，虽然在科研上一丝不苟，私下却温厚谦谨，从不舍得责骂下属。他彬彬有礼、丰采奕奕，颠覆了人们对科研工作者的一贯印象。内敛、安静、风趣，这几个特点，是洋溢在林本坚身上的易被感知的特点。在科学家的岗位上尽责尽心，当先生，又表现得体、周道。作为科学家，在外，45年如一日，开山辟路，荣誉等身，业界隆崇。在内，父慈子孝，伉俪荣谐，活力盎然。（网易科技 评）[7]
假如没有林本坚及其团队，台积电的微影（半导体关键制程之一）不会有今天这规模。（台积电董事长张忠谋 评）[11]
奖励他开拓浸润式微影系统方法，持续扩展纳米级集成电路制造，将摩尔定律延伸多代。（未来科学大奖获奖评语）[15]
他一个人站在一艘“航空母舰”前叫停。（美国国家工程院院士、台湾新竹交通大学校长张懋中 评）[7]
他的心，跟上了他的每一个步伐。（林本坚挚友 评）[7]
林本坚院士是改写半导体历史的巨擘，也是光学微影技术的先驱者，清华能够延揽到这位谦虚又乐意传授的国际人才任教，非常荣幸。（台湾清华大学电机系主任徐硕鸿教授 评）[10]
出版著作
参考资料：[13]
获得荣誉
参考资料：[8][9]
参考资料 15
- 林本坚 — 香港未来科学大奖基金会
- 林本坚 — 国际科技创新中心
- 假如没有林本坚，就没有今天的台积电 — 商业周刊
- 参考 4
- 制造一台光刻机，究竟有多难?
- 经济观察网连载刊文：台积电是怎样炼成的 “潮汕人”突破光刻机 — 新浪财经
- 全球芯片竞争 他是唯一有原创发言权的华人科学家|林本坚|科研|通信 — 网易科技
- 工程科學組 — academicians
- 未来科学大奖揭晓:台积电传奇林本坚获数学与计算机科学奖 — 澎湃新闻
- 改写半导体发展史台积电前研发副总林本坚院士将任教清华电机 — ee
- 2018年未来科学大奖揭晓 来自台湾的林本坚教授获“数学与计算机科学奖” — 百家号
- “再逼中国大陆，他们可能重新定义半导体，就像DeepSeek一样” — 百家号
- 把心放上去 — 国家图书馆
- 参考 14
- 2018未来科学数学与计算机科学奖揭晓:林本坚获奖 — 新浪科技