黄桑希兰

黄桑希兰（英文名：Jennie S. Hwang，1949年—），材料科学家，美国国家工程学院首位华裔女院士。她的专业研究领域包括芯片封装的材料与制程。她在台湾毕业于北一女中及台湾成功大学化学系。1976年取得美国哥伦比亚大学材料工程博士，是哥伦比亚大学第一位女性材料博士。此后历任凯斯西储大学材料系教授、工学院杰出教授、学校董事，H-Technology集团总裁。1998年获选为美国国家工程学院院士，是首位华裔女院士。2019年， NAE成立了Jennie S. Hwang博士奋进基金。

黄桑希兰一直维持着从中学开始，就重视妆扮及穿着优雅的习惯。她也喜好舞蹈及歌唱。黄桑与夫婿育有一子一女。

1949年，黄桑希兰出生于中国大陆，后前往台湾。

她在台湾毕业于北一女中及台湾成功大学化学系。

1976年，取得哥伦比亚大学材料工程博士，是哥伦比亚大学第一位女性材料博士。此后历任凯斯西储大学材料系教授、工学院杰出教授、学校董事，H-Technology集团总裁。

1998年，获选为美国国家工程学院院士，是首位华裔女院士。

黄桑希兰在美国发展表面黏著技术制造领域树立权威，对微电子和电子材料技术研发及管理的生涯表现卓著。